Systém ALD s indukčně vázanou plazmou
Předmět plnění:
- dodávka systém pro depozici atomárních vrstev (ALD), včetně software a příslušenství
- systém musí umožňovat jak tepelné, tak plazmové procesy s možností jejich kombinace v rámci jednoho cyklu
- vysoká stabilita procesních podmínek a opakovatelnost depozičních cyklů
- reakční komora vyrobena z jednoho bloku hliníku, vyhřívaná na 150°C k zabránění kondenzace prekurzorů
- výkon vakuového systému a vakuových pump mezní tlak v reaktoru nejméně < 5 * 10⁻⁶ Torr
- další v přílohách
Hodnoticí kritéria:
- nejnižší nabídková cena
Lokalita:
- okres Ostrava-město
Termín:
- max. 360 kalendářních dnů od nabytí účinnosti smlouvy
Přílohy:
Příloha č. 1.docxPříloha č. 2.docx
Příloha č. 3.docx
Příloha č. 4.docx
Příloha č. 5.docx
Příloha č. 6.docx
Příloha č. 7.docx
Příloha č. 8.docx
Příloha č. 9.docx
Příloha č. 10.docx
Příloha č. 11.docx
Příloha č. 12.pdf
Příloha č. 13.pdf