Bezmaskový laserový litografický systém

Předmět plnění:
- dodávka moderního bezmaskového laserového litografického systému
- určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů
- jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek
- účelem je rozšíření technologické možnosti pracoviště v oblasti přípravy mikro- a nanostruktur
- zařízení umožní flexibilní a rychlou přípravu struktur bez nutnosti výroby fotomasek, čímž dojde ke zefektivnění výzkumných a vývojových činností
- pořízení zařízení přispěje ke zvýšení kvality, efektivity a konkurenceschopnosti výzkumných aktivit pracoviště
- laser s vlnovou délkou 405 nm
- min. dosažitelná šířka struktury 0,80 - 1,00 µm
- systém musí umožňovat modulaci expoziční dávky min. ve 1024 úrovních při jednom průchodu nebo ekvivalentní kontinuální řízení intenzity atd.
- podrobná specifikace je v příloze

Hodnotící kritéria:
- kvalita nabízeného plnění

Lokalita:
- okres Brno-město

Termín:
- do 6 měsíců ode dne účinnosti smlouvy, avšak současně ne později, než 31.12.2026

Přílohy: