Dodávka PVD zařízení

Předmět plnění:
- dodávka PVD zařízení
- jedná se o technicky vyspělé zařízení typu PVD (Physical Vapor Deposition), určené primárně pro průmyslové nanášení ochranných vrstev s vysokými požadavky na optickou kvalitu, přilnavost, chemickou odolnost a životnost
- zařízení bude sloužit k aplikaci tenkých vrstev na bázi nitridů, karbidů, karbonitridů, oxidů a čistých kovů, vč. specifických aplikacích jako jsou použití v exteriéru a interiéru, kde dochází k otěru atd.
- např. počet MF naprašovacích zdrojů v komoře: 2 nezávislé zdroje
- hustota výkonu na target: 9 W/cm²
- použitelný prostor pro depozici: Ø 720 mm × 1 500 mm
- výkon plasma-etching předúpravy: 10 kW
- a další specifikace v příloze

Hodnoticí kritéria:
- nabídková cena

Lokalita:
- okres Česká Lípa

Termín:
- do 30.10.2025