PVD depoziční systém

Předmět plnění:
- dodávka kombinovaného systému pro napařování a magnetronové naprašování
- vybavený alespoň třemi zdroji termálního napařování
- jedním zdrojem pro naprašování pomocí magnetronu (magnetron sputtering)
- monitorem tloušťky vrstvy s minimálně dvěma aktivně chlazenými senzory z křemenných krystalů (QCM)
- systém bude použit k nanášení různých materiálů na substráty do průměru 150 mm
- turbomolekulární vývěva namontovaná na ISO160 (nebo větší) přírubě, rychlost čerpání je 350 l/s nebo více
- plně integrovaná, floor-top průmyslová platforma
- vakuová komora, čerpací systém a veškerá výkonová elektronika musí být integrovány do jednotné konstrukce/rack/ (vzhledem k omezenosti prostor nejsou akceptovatelné externí stolní RF generátory, samostatné řídicí jednotky nebo externí rámy)
- vzhledem k prostorovým omezením v laboratoři nepřesáhnou rozměry systému (bez suché vývěvy): (Š) 1 300 mm x (V) 2 000 mm x (H) 800 mm
- váha systému nepřesáhne 100 kg/m2
- dvojité 19palcové integrované elektronické racky
- bližší specifikace v příloze

Hodnotící kritéria:
- nejnižší nabídková cena

Lokalita:
- okres Brno-město

Termín:
- do 26 týdnů od data účinnosti smlouvy s vybraným dodavatelem

Přílohy: