Dodávka PVD zařízení
Předmět plnění:
- dodávka plně funkčního a technicky vyspělého zařízení typu PVD (Physical Vapor Deposition), určeného primárně pro průmyslové nanášení ochranných vrstev s vysokými požadavky na optickou kvalitu, přilnavost, chemickou odolnost a životnost
- zařízení bude sloužit k aplikaci tenkých vrstev na bázi nitridů, karbidů, karbonitridů, oxidů a čistých kovů, včetně specifických aplikacích jako jsou použití v exteriéru a interiéru, kde dochází k otěru
- výsledné PVD vrstvy budou splňovat příslušné normy bez nutnosti dodatečného lakování
- hustota výkonu na target - minimálně 9 W / cm²
- výkon plasma-etching předúpravy - min. 10 kW
- konečný tlak vakua - ≤ 1 × 10⁻² Pa ≤ 10 min
- a další specifikace v příloze
Hodnotící kritéria:
- celková výše nabídkové ceny
Lokalita:
- okres Česká Lípa
Termín:
- nejpozději do 30. 4. 2026
Přílohy:
Příloha č. 1.pdfPříloha č. 2.docx
Příloha č. 3.docx
Příloha č. 4.docx
Příloha č. 5.docx